超純水設(shè)備

• 原理及技術(shù)：超純水設(shè)備常采用反滲透（RO）、電去離子（EDI）等核心技術(shù)。反滲透是在壓力作用下，使水通過半透膜，去除水中的溶解鹽類、膠體、有機(jī)物等雜質(zhì)；EDI 則是將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，在電場作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移和深度除鹽，無需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高純度超純水.

• 工藝流程：典型的工藝流程包括預(yù)處理、反滲透、純化水箱、離子交換器、紫外燈等步驟，以進(jìn)一步去除水中的雜質(zhì)、細(xì)菌和有機(jī)物等，確保水質(zhì)達(dá)到超純水標(biāo)準(zhǔn)。不同的應(yīng)用場景和對水質(zhì)的要求會(huì)有不同的工藝流程組合，如預(yù)處理 - 一級反滲透 - 二級反滲透 - EDI 裝置 - 純化水箱 - 純水泵 - 紫外燈 - 用水點(diǎn)等.

• 設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：零部件質(zhì)量可靠，整體化程度高，易于擴(kuò)展；自動(dòng)化程度高，遇故障自停保護(hù)；脫鹽率高，能耗低，水利用率高；**的膜保護(hù)系統(tǒng)可延長膜壽命，且系統(tǒng)無易損部件，運(yùn)行長期有效.

• 應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于電子、核電、五金、電鍍、光學(xué)、科研等對水質(zhì)要求**的行業(yè)，如電子行業(yè)中的半導(dǎo)體、集成電路制造，需要使用超純水進(jìn)行清洗、蝕刻等工藝，以避免雜質(zhì)對產(chǎn)品質(zhì)量的影響