納米金剛石研磨分散機，納米金剛石拋光液研磨分散機，進口納米研磨分散機，德國研磨分散機，IKN研磨分散機，立式研磨分散機，管線式研磨分散機
IKN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。
IKN研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過研磨分散機定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及分散的效果。
納米金剛石拋光液 納米材料是納米科技的基礎，由于納米材料具有顆粒尺寸小、比表面積大、表面能高、表面原子所占比例大等特點，以及其*的四大效應：小尺寸效應、量子尺寸效應、量子隧道效應和表面效應，從而具有傳統材料所不具備的奇異或反常的物理、化學特性。
納米金剛石用作研磨和拋光
美國、英國等國家已制備成納米拋光液，并有商品出售。常規的拋光液是將不同粒徑的顆粒放入基液制成拋光劑，廣泛用于金相拋光、高級照像鏡頭拋光、高級晶體拋光以及巖石拋光等。***細的顆粒尺寸一般在微米到亞微米級。隨著高技術的飛快發展，要求晶體的表面有更高的光潔度。這就要求拋光劑中的顆粒越來越細，分布越來越窄，納米微粒為實現這個目標提供了基礎。目前已制成的用納米金剛石配置的超精拋光液、拋光膏，可用于紅、藍寶石、首飾、高級光學鏡頭和激光鏡頭的精拋光，表面粗糙度可達Rmax<<1nm
含有納米金剛石的拋光系統具有以下一些*性：
3.1超細尺寸的納米金剛石能確保表面粗糙度的***小值和拋光系統膠體的穩定性。
3.2納米金剛石的化學穩定性，在化學上可以用于拋光系統的活性添加劑和拋光系統的還原。
3.3降低拋光表面材料的分量，減少材料的損耗。
3.4由于納米金剛石的離子交換和吸附活性，可減少納米金剛石表面的離子和分子產物的活動性，即確保表面的純凈。
3.5納米金剛石團聚體的團聚結構有利于懸浮的拋光系統中聚結調節作用。
3.6這個系統沒有毒。
3.7含有納米金剛石的拋光系統，可以提高拋光產品質量和競爭能力，以確保難加工材料拋光的加工性。
加工1m2的表面，納米金剛石的單位消耗為0.001-0.01kg。
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納米金剛石拋光液研磨分散機
研磨機機 和分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
IKN石墨烯研磨設備采用德國先x的高速研磨分散技術，通過超高
轉速（***高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的漿料。
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