1、電子工業(yè)超純水概述

    半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。
 
2、制備電子工業(yè)超純水的工藝流程

采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?

其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點 

3、電子工業(yè)超純水的應用領(lǐng)域
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水
超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；
光學玻璃鍍膜、光電子及光纖
超純材料和超純化學試劑
汽車、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；

4、設(shè)備特點：
按需定制，柔性生產(chǎn)
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定
占地節(jié)省，維護簡易

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